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颅脑电阻抗成像监护系统的应用改进及转危期图像监护实验研究
中文名称: 颅脑电阻抗成像监护系统的应用改进及转危期图像监护实验研究
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论文编号: 4143082收藏本论文】【我的收藏】【我要投稿
英文名称: Preliminary Improvement and Monitoring Experimental Research for Patients in Critical Stage of Brain Electrical Impedance Tomography
学位类型: 硕士毕业论文
作者: 涉及隐私,隐去***  作者本人请参看权力声明>>
导师: 涉及隐私,隐去***
毕业学校: 涉及隐私,隐去***
专业: 生物医学工程
毕业年份: 涉及隐私,隐去***
关键字: 电阻抗断层成像 电极 接触阻抗 信噪比 一致性 颅脑损伤
简介目录: 点击此处 免费索取本论文简介和目录>>
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论文摘要: 电阻抗断层成像(Electrical Impedance Tomography(略)术,是近二十年才出现的新一代无损伤功能成像技术.根据人体内不同组织具有不同的电阻抗这一物理原理,通过各种方法给人体施加小的安全驱动电流(电压)(略)响应电压(电流)信号以重建人体内部的电阻率分布或其变化的图像;该技术具有无创、便携、廉价、操作简单、功能成像、医学图像、动态监护等特点,可以用于对临床病人的连续监测. 课题组经过多年的研究,成功建立了基本满足临床应用需求的EIT脑部床旁监护系统,并开展了这一技术的初步临床应用研究,取得了一定的成果,并证明了EIT技术在临床监护应用的可行(略)前期的临床实验中发现,系统存在若干技术应用的缺陷,亟待解决:1)用(略)电极系统容易受到临床复杂的电磁环境的干扰,影响到测量数据的准确性.因此,将电极进行改进以提升其屏蔽性能.2)目前所使用的电极系统的结构是由16个独立的电(略)列式结构,电极在使用安放的过程中耗时耗力,并且对操作人员具有一定的技术要求,增大了临床实验的难度.因此,将电极结构改进使其操控便捷.3)目前临床上的实验记录采用人工纸质记录方式,不便...
Electrical Impeda(omitted)aphy (EIT) is a novel technique of functional imaging, coming forth in recent two decades after t(omitted)nce of morphological and structural imaging. In light of the physical principle that different tissues have di(omitted)o-electrical impedance, images of biological impedance d(omitted)n could be reconstructed by injecting safe currents into body and measuring electrical pot(omitted) the body surface. With the feature of low-cost, non-invasiveness, non-radioactivity, and re...
目录:
缩略语表第6-7页
中文摘要第7-11页
Abstract第11-13页
前言第14-16页
文献回顾第16-19页
1 电极系统的改进第19-34页
  ·屏蔽性能改进第19-22页
    ·小结第22页
  ·电极带的制作第22-25页
    ·小结第24-25页
  ·电极的筛选第25-34页
    ·实验电极第26页
    ·被试对象第26页
    ·测量设备第26-27页
    ·性能指标第27-29页
    ·实验结果第29-32页
    ·小结第32-34页
2 临床实验数据库系统的开发第34-40页
  ·数据库管理系统第34-39页
    ·用户登录模块第35页
    ·数据采集模块、存储模块第35-36页
    ·数据分析模块第36-38页
    ·数据检索模块第38页
    ·数据备份模块第38-39页
  ·小结第39-40页
3 转危期颅脑EIT 监护的实验研究第40-50页
  ·临床实验研究第40-46页
    ·监护对象第40页
    ·监护仪器第40-41页
    ·监护电极第41-42页
    ·监测过程第42页
    ·监护结果分析第42-45页
    ·实验小结第45-46页
  ·动物实验研究第46-50页
    ·实验原理第46页
    ·实验对象第46页
    ·实验过程第46-47页
    ·实验结果第47-49页
    ·实验小结第49-50页
4 总结与展望第50-52页
参考文献第52-57页
个人简历和研究成果第57-58页
致谢第58页
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