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离子辅助蒸发Ti_3O_5制备光学薄膜的研究
中文名称: 离子辅助蒸发Ti_3O_5制备光学薄膜的研究
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论文编号: 3455344收藏本论文】【我的收藏】【我要投稿
英文名称: Study of the Preparation of Optical Thin Film by IAD from Ti_3O_5
学位类型: 硕士毕业论文
作者: 涉及隐私,隐去***  作者本人请参看权力声明>>
导师: 涉及隐私,隐去***
毕业学校: 涉及隐私,隐去***
专业: 材料学
毕业年份: 涉及隐私,隐去***
关键字: 离子辅助蒸发 Ti_3O_S 薄膜 退火
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论文摘要: 新型薄膜材料对当代高新技术起着重要的作用,是国际上科学技术研究的热门学科之一.光学薄膜作为薄膜材料的一个重要应用领域,在照明、光纤通讯、汽车工业等都(略)应用.氧化钛薄膜的透明区为0.35~12μm,氧化钛薄膜作为光学薄膜应用时有很好的折射率.由于氧化钛薄膜在可见光区(略)光学性能稳定,被广泛的应用于减反膜、滤光片、光催化等.Ti_3O_5是钛的低价系列氧化物中相对较稳定的化合物,具有类金(略)温下具有很高的导电性,与传统的TiO_2材料相比,具有阻温特性好的优点.离子束辅助沉积技术可以使制备的薄膜膜层致密、均匀,提高了薄膜的稳定性,从而达到提高薄膜的光学性能和机械性能的目的,是目前常用(略)备方法. 本文采用离子束辅助蒸发Ti_3O_5法在K9玻璃成功制备了具有良好光学性能的氧化钛薄膜.研究了制备过程中的主要工艺因素离子源、基片温度、氧气流量和沉积速率对薄膜光学性能的影响,用UV-755B分光光度计测试了薄膜的透射率曲线,并用包络线法计算了薄(略)n)和消光系数(k).结果显示,以Ti_3O_5为初始膜料,采用离子辅助沉积的方法,在蒸气入射角为0°条件下具有最好的光...
The new film materia(omitted)en used more and more in modern High-tech, and it has been a popular discipline(omitted)thin film is an important application as a kind of thin film materials, especially in the field of illumination, fibe(omitted)ation, automobile, etc. The Transparent area of the film of the oxide titanium is 0.35 ~ 12μm. As a material o(omitted)cal thin film, the film of the oxide titanium has high refractive index, and stable optical performance. It was used in IR film, in(omitted) filt...
目录:
第1章 绪论第8-16页
  ·薄膜材料的应用现状第8-10页
  ·光学薄膜的发展历史和研究现状第10-13页
  ·氧化钛薄膜的应用和发展现状第13-14页
  ·本研究课题的提出及研究目的第14-16页
第2章 氧化钛薄膜的制备技术基础第16-34页
  ·真空物理基础第16-20页
  ·氧化钛薄膜的制备技术概述第20-25页
    ·物理气相沉积法第20-22页
    ·化学气相沉积法第22-24页
    ·溶液成膜法第24-25页
  ·离子辅助沉积技术第25-27页
    ·离子辅助镀膜工作原理第25-26页
    ·常用离子源介绍第26-27页
  ·薄膜的形成第27-32页
    ·凝结过程第27-30页
    ·核形成与生长第30-32页
  ·TiO_2的晶格结构第32-34页
第3章 光学薄膜的制备及表征第34-48页
  ·实验设备介绍第34-38页
    ·真空镀膜设备介绍第34-35页
    ·电子束蒸发装置及原理第35-37页
    ·离子源设备及原理第37-38页
  ·镀膜过程中参数的监控第38-40页
    ·真空度的测量第38-39页
    ·薄膜厚度的监控第39-40页
  ·薄膜的制备第40-42页
    ·基片的处理第40-41页
    ·薄膜制备过程第41-42页
  ·薄膜的光学性能及表征第42-48页
    ·薄膜透过率的测试第42-43页
    ·薄膜光学性能的表征第43-46页
    ·X射线衍射原理第46-48页
第4章 制备工艺对氧化钛薄膜光学性能的影响第48-58页
  ·离子源对氧化钛薄膜光学性能的影响第48-50页
  ·入射角对薄膜光学性能的影响第50-52页
  ·基片温度对氧化钛薄膜光学性能的影响第52-54页
  ·氧流量对薄膜光学性能的影响第54-56页
  ·沉积速率对氧化钛薄膜光学性能的影响第56-58页
第5章 退火对薄膜结构和光学性能的影响第58-64页
  ·退火对不同基片温度下制备的光学薄膜性能的影响第58-61页
  ·不同退火温度对同一基片温度下制备的光学薄膜性能的影响第61-64页
第6章 结论第64-65页
参考文献第65-68页
致谢第68-69页
攻读硕士期间发表论文第69页
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